目前，越来越多的原子力显微镜被引入到各项研究中，但是相信很多科研人员会发现，做了几次样品后，针尖或者悬臂梁总会有东西粘附上去了，图像质量和原来的形貌出入太大，没有多少细节，甚至出现双针尖现象，这个时候，被污染的针尖已经严重影响到实验。而AFM探针针尖应该怎样清洗才合适呢，这个问题一直困扰着科研人员。粒子探针一般采用的是紫外臭氧清洗技术来清洗有机物，紫外臭氧技术*是光子输出，对探针表面不会造成任何损伤，是一种温和的清洗方法。PSD和PSDP系列紫外臭氧系统通过产生185nm和2...

钙钛矿广泛用于太阳能电池的开发。由于这些类型的太阳能电池具有良好的光伏性能，因此对它们进行了系统的研究。钙钛矿薄膜的厚度和形态是影响太阳能电池性能的重要因素。人们发现，特别当钙钛矿的厚度小于400nm时，钙钛矿太阳能电池的效率很大程度上取决于薄膜厚度；而当钙钛矿的厚度大于400nm时，效率则很大程度上取决于钙钛矿层的薄膜形态。在本篇方案说明中，我们使用FR-pRoVIS/NIR测量钙钛矿薄膜的厚度。FR-pRoVIS/NIR测量方法：用于表征的样品是两种不同厚度的CH3NH3...

应用领域Harrick等离子清洗机应用领域广泛，包括材料科学，聚合物科学，生物医学，微流体技术，钙钛矿太阳能电池制备，光学器件，显微镜，牙科以及其他医学研究等。离子表面改性表面改性的好处通过等离子处理来附着或吸附官能团用以处理表面，改变特定应用的表面性能。根据所使用的工艺气体来定制引入官能团，然后可以使用适当的气体将表面润湿性更改为亲水性或疏水性。润湿性的提高，通过改善表面的覆盖范围和涂层的延展性以及增强两个表面之间的附着力，为后续处理（例如膜的沉积或分子吸附）做好准备。等离...

EDC湿法显影刻蚀系统光刻胶显影（KrF/ArF）SU8厚胶显影显影后清洗PostCMP清洗光刻胶去除金属Lift-off处理刻蚀微刻蚀处理新一代的旋转喷淋式湿法处理机台，不仅jinque控制试剂注射，还能够大大节约试剂，绿色环保的湿法处理方案。顶盖阀门控制技术显影液注射头的位置我们采用dujia的VoD顶盖阀门控制技术，确保在基片中心位置垂直向下喷射，确保样片表面的试剂受力均匀性。VS其他厂商提供的喷射装置参考如下图，是从圆弧顶盖的不同角度倾斜喷射时，样片收集到的试剂量不均...

据第三方机构智研咨询统计，至2022年quanqiu光刻胶市场规模将超过100亿美元。光刻胶按应用领域分类，可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。quanqiu市场上不同种类光刻胶的市场结构较为均衡，具体占比可以如下图所示。据智研咨询的数据显示，受益于半导体、显示面板、PCB产业东移的趋势，2019年中国光刻胶市场本土企业销售规模约70亿元，quanqiu占比约10%，发展空间巨大。目前，中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主，平板显示、半导体用光刻胶供应...

等离子去胶机是我们在微波等离子处理工艺中的新产品。该批次式晶圆灰化设备成本低廉、尺寸适中，特别适用于工厂、科研院所等领域。等离子去胶机操作规程：1、自动切割小车应经空车运转，并选定切割速度；2、使用钍、钨电极应符合JGJ33-2001第12.7.8条规定；3、高频发生器应设有屏蔽护罩，用高频引弧后，应立即切断高频电路；4、应检查并确认电源、气源、水源无漏电、漏气、漏水，接地或接零安全可靠；5、操作人员应站在上风处操作。可从工作台下部抽风，并宜缩小操作台上的敞开面积；6、小车、...

等离子刻蚀机一般应用于半导体加工领域，而等离子清洗机则一般应用于材料领域。等离子清洗处理可改变材料的表面化学。因此能改变材料的表面性质。例如，大气或是氧气等离子常用在聚合物(例如聚苯乙烯,聚乙烯)表面产生羟基。通常表面从疏水性(高水接触角)改变至亲水性（水接触角小于30度），并增加表面润湿性能。等离子处理也能改变其它材料的表面化学（表面性质），如硅、不锈钢及玻璃。用低温等离子体在适宜的工艺条件下处理PE、PP、PVF2、LDPE等材料，材料的表面形态发生显著的变化，引入了多种...