Futurrex紫外正性光刻胶

简要描述：Futurrex 成立于1985年，是美国光刻胶及辅助化学品制造商。产品以技术著称，从2000年至今年均增长率为33%。主要客户有：Ti、半导体、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex长期与Intel实验室合作，产品被广泛收录进美国各大学半导体教程，是各大研究机构产品。

产品型号：PR1系列
厂商性质：代理商
更新时间：2024-05-17
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产品分类

光刻胶

SU-8胶显影液 Futurrex光刻胶纳米光刻压印胶查看全部产品

详细介绍

Futurrex产品优势：

1、Futurrex光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（HMDS）

2、负性光刻胶常温下可保存3年

3、150度烘烤，缩短了烘烤时间

4、单次旋涂能够达到100um膜厚

5、显影速率快，100微米的膜厚，仅需6~8分钟

正性光刻胶

A、粘度增强正胶（PR1系列）

应用：蚀刻、反应离子刻蚀、离子注入、电镀；

特征：PR1系列正胶耐热温度=110℃；

品牌	产地	型号	厚度	耐热温度	应用
Futurrex	美国	PR1-500A	0.4μm～0.9μm	耐热温度=110 ℃	湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀
		PR1-1000A	0.7μm～2.0μm
		PR1-1500A	1.3μm～3.0μm
		PR1-2000A	1.7μm~4.0μm
		PR1-4000A	3.7μm~10.0μm
		PR1-12000A	10.0μm~25.0μm
Micro Resist	德国	ma-P 1200系列	0.5～50μm胶厚	非常适合作为刻蚀掩模，的抗干刻、湿刻性能；优异的电镀性能（酸和碱性镀液中的稳定性）光刻胶图案良好的热稳定性；碱性水溶液下显影；宽带、g或i线曝光

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