SU-8 3000光刻胶

简要描述：SU-8 3000是一种高对比度，基于环氧的光刻胶，专为微加工和其他微电子应用中，
需要化学和热稳定的图像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改进配方，已被广泛采用
由MEMS生产商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附着力和降低涂层应力。
SU-8 3000的粘度范围允许膜厚为4至单层涂层厚度为120 µm。

产品型号：3010/3005/3025/3050
厂商性质：代理商
更新时间：2024-05-17
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产品分类

光刻胶

SU-8胶显影液 Futurrex光刻胶纳米光刻压印胶查看全部产品

详细介绍

特征

•提高附着力

•降低涂层应力

•高纵横比成像

•垂直侧壁

•单层涂膜厚度大于100mm

•出色的抗干蚀刻性

SU-8 3000抗蚀剂经过专门设计，可与MicroChem的SU-8显影剂一起用于浸渍，喷涂或喷浆工艺。也可以使用其他基于溶剂的显影剂，例如乳酸乙酯和双丙酮醇。对于高纵横比和/或厚膜结构，也建议强烈搅拌。表6中给出了浸入过程的建议显影时间。这些显影时间是近似的，因为实际溶解速度会随着搅拌而变化很大。

SU-8 3000具有良好的机械性能。但是，对于要保留成像的抗蚀剂作为终设备一部分的应用，可以在加热板上或对流烤箱中在150-200°C之间将抗蚀剂进行坡道/分步硬烘烤，以进一步使材料交联。烘烤时间根据烘烤过程的类型和膜厚的不同而不同。

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